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- 氟化铵15-50%氢氟酸0.095%-3%其余为水/桶装
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- BOE半导体制造|氢氟酸1.75%氟化铵
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- 成分含量:氢氟酸0.05%,氟化铵17%
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- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%其余为水;瓶装;
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- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%其余为水;瓶装
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- 蚀刻二氧化硅;氟化铵百分之40氢氟酸百分
- 3824909990刻蚀液
- 成分含量:氟化铵1.3%,硝酸:2.5%,高氯酸15%,其他:水
- 3809930000制革工业用清洗剂
- FUJIFILM;6:1;用于工业制革的生产;氟化铵百分之30氢
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- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%其余为水;瓶装;
- 3824909990蚀刻液
- 用于蚀刻液晶玻璃面板上的金属膜;氟化铵<
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