84862022PVD磁控溅射镀膜线

无品牌|无型号|
PVD
PVD磁控溅射镀膜线：形成导电膜,用于将产生的电流收集导出。

84862022半导体行业用金属溅射设备

UNITED VISION MARK50

84862022物理气相沉积设备/在硅片表面

Celsior

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8486202200喷镀机(旧)

;喷镀;AMAT;Endura5500,

8486202200物理气相沉积设备

适用于半导体器件、集成电路等电子涂层装置

8486202200物理气相沉积设备

用途：半导体制造|功能：物理薄膜沉积|品

8486202200物理气相沉积设备(主机)

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8486202200蒸发台(旧)

用于以蒸发的方式在硅片表面形成规定厚度的

8486202200材料外延系统

半导体生产用;;RIBER牌;DC4045

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