8486202200ITO溅射设备

用途:LED产品生产过程中通过溅射方式镀

8486202200ODR电子束蒸发系统

品牌Cello型号Seker-90

8486202200半导体晶片电子束蒸镀系统

用途利用电子束之能量将预镀材料熔化蒸发，

8486202200离子溅射镀膜仪

用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）

8486202200铜铟镓硒太阳能电池成膜设备(旧)

用途:用于在批量生产中沉积铜、铟、镓、硒

8486202200物理气相沉积氮化铝设备

Ar离子通过铝靶把相应的金属原子沉积在外

8486202200物理气相沉积设备

型号:Endura2

8486202200物理气相沉积设备

型号:Endura2iLB

8486202200物理气相淀积设备（4成新）

用于半导体制造中PVD工艺|加直流功率A

8486202200磁控溅射系统

集成电路镀膜用|沉积成膜|ulvac牌|

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