84862021PECVD化学气相沉积设备

品牌:铂阳|无型号|
CVD
PECVD化学气相沉积设备：离解化学气体,在玻璃基板上产生化学反应,生长薄膜/250MW硅基薄膜太阳能自动化生产线

84862021等离子化学气相沉积装置

|CENTROTHERM|E2000-HT410-4
化学气相沉积
太阳能电池生产线用|在半导体表层沉积氮化硅膜

84862021化学气相沉积装置

|OerlikonSolar|KAIMT
化学气相沉积装置
化学气相沉积装置主要用于太阳能电池组件导电层的镀膜。工作原理：该装置内部的传输机械手将玻璃基板传送到薄膜沉积模块中，在一定的温度、压强下，等离子体发生器在反应室内产生射频电压，将工艺气体电离成原子、分子、原子团形式的带电荷粒子混合状态，经过离子碰撞后使之发生化学反应，沉积成一层非晶硅或者微晶硅薄膜在玻璃基板表面。

84862021金属有机物化学气相淀积设备

K465i
化学气相淀积
该商品由手套箱系统、反应腔、气体系统、电源及控制系统、真空系统、冷却水和气动系统、安全控制系统等组成。功能是在衬底表面生长一层或多层半导体薄膜。工作原理是通过控制通入反应腔气体的种类、流量和反应腔内的温度、压力，从而在衬底表面生长出不同工艺要求的半导体薄膜。进口后用于LED制造的外延片加工工序。

84862021化学气相沉积设备(旧)

制作半导体专用

84862021化学气相沉积设备/NOVELLUS/在

D15498A

84862021金属有机物化学气相沉淀炉

IC CCS 19X2/生产半导体晶片用

8486202100常压化学气相淀积炉(旧)

用于硅片生成膜层|该设备由真空系统、传送

8486202100等离子化学气相沉积机

作为半导体芯片制造过程中需要用到氧化硅等

8486202100等离子增强化学气相沉积系统(PECVD)

用途;功能;品牌;型号

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