8486202100太阳能减反射膜制造设备
在硅片的表面镀上一定厚度和折射率氮化硅膜

8486202100装入取出式等离子CVD设备
用于电子零部件的沉积成膜等离子;;ULVAC;CC-200CZ

8486202100E475金属有机物化学气相淀积设备/VEECO牌
E475,生产聚光型太阳能晶片

8486202100等离子增强化学气相沉淀设备
沉积微晶硅薄膜;沉积;JUSUNG;T-T5P00100SC

8486202100等离子增强化学气相沉积装置
等离子增强化学气相沉积装置|半导体制造工

8486202100化学气相沉积设备
半导体制造;薄膜沉积;TEL牌;型号TRIASTIN(3CH)

8486202100化学气相沉积设备
芯片生产;在硅片;Novellus;VectorExpress

8486202100化学气相沉积设备(旧)
制造集成电路中硅片表面沉积稳定固体膜用|

8486202100化学气相沉积装置THERMCO 5200
此设备主要用于,半导体制造中,CVD工艺

8486202100镓源
分子束外延系统用;;无;2190-1-GACELL

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