8486202100金属有机物化学气相淀积设备
AIXTRON牌CRIUS31X2”

8486202100金属有机源化学气相淀积设备
专用于在基板上形成氮化镓LED结构之薄膜

8486202100装入取出式等离子CVD设备
用于电子零部件的沉积成膜;等离子;ULVAC;CX-200Cz

8486202100MOCVD金属有机物气相沉积系统
制造半导体;;Veeco;K465i

8486202100MOCVD设备/用途用于生产地面聚光太阳电池外延片
型号E475品牌VEECO功能金属有机化学气相沉积

8486202100等离子体化学气相沉积系统
用途;功能;品牌;型号

8486202100等离子增强化学气相沉淀设备
正面沉积非晶膜层;沉积;JUSUNG;T-H0600200SA

8486202100等离子增强化学气相沉积设备
;;Oxford牌;800PLUS

8486202100化学气相沉积机/旧
晶圆生产化学气相沉积制程用|完成晶圆的化

8486202100化学气相沉积设备
芯片生产;在硅片表面生成硅膜;Applied;ProducerGT

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