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3824909990二氧化硅蚀刻液
蚀刻二氧化硅;氟化铵百八之四十,氢氟酸百分之二至七,

3824909990二氧化硅蚀刻液BOE20-1
牌TAIMAX蚀刻二氧化硅;氟化铵百八之四十,氢氟酸百分

3824909990二氧化硅蚀刻液BOE6-1
牌TAIMAX蚀刻二氧化硅;氟化铵百八之四十,氢氟酸百分

3824909990二氧化硅蚀刻液SBOE20-1BOE6-1
牌TAIMAX蚀刻二氧化硅;氟化铵百八之四十,氢氟酸百分

3824909990混酸
硅片产品洗净,氢氟酸5%,硝酸44%,醋酸18%,其他33%桶装

3824909990多晶硅蚀刻液POLY689
用于半导体工艺中;硝酸<70%氢氟酸<1%其余为水;瓶装

38249099906:1:2:1硅腐蚀液MIXEDACIDETCH
用于去除减薄时产生的应力,防止碎片;65%硝酸10%氢氟酸

3824909990柏斯高三价铬彩钝H
电镀表面活性剂|醋酸<2.5%,氢氟酸<2.5%硝酸<10%水>85%|30KG/桶|不含稀土元素

3824909990三价铬厚钝ECOTRIHC2
电镀表面活性剂|硝酸铬10-20%硝酸钠5-10%氢氟酸1-2.5%水70.75-80.75%|25kg/桶

3824909990氧化物刻蚀缓冲剂
半导体制造用成分含量氢氟酸0.08%氟化铵17.2%水82.72%包装槽罐车

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