- 38249099901.2%氦气和氮气的混合气
- 用于半导体制造;含氦1.2%,氮98.8%;钢瓶包装
- 382490999030%氧气氦气混合气
- 集成电路用,含量:氧30%,氦70%
- 38249099901.2%氦气和氮气的混合气
- 1.2%HE/N2用于半导体制造|含氦1
- 38249099905%氢气氦气混合气
- 氢气3.91-49.9%氦气50.1-96.09%钢瓶装/薄膜制程用|||[A]0%
- 3824909990氢气和氦气的混合气体
- H2/HE半导体制造用;氢气5%氦气95%;钢瓶装
- 38249099900.5%氧气氦气混合气
- 集成电路用,含量:氧0.5%,氦99.5
- 38249099901%磷烷氦气混合气
- 成分含量：1%磷化氢，99%氦气，用途：
- 3824909990氢气和氦气的混合气体
- H2/HE半导体制造;|成分:氢气5%氦
- 9013200090氦氖激光器/品牌:CVIMGGLP
- 型号:25-LHP-991-230通过激励对氦氖气体进行
- 3824909990氦气混合气ROFINMIXUREGAS
- 用途电子产品生产;氦气65%氮气19%一氧化碳6%二氧化碳4
专业提供各国海关进出口数据、各国贸易数据、产品进出口分析报告、 行业进出口报告、企业进出口报告、进口企业黄页、出口企业黄页等信息产品
-
有需求者请致电：010-89438819
QQ：529457141
微信公众号：CIE-DATA
-
关注公众号
网站简介 | 帮助中心 | 网站建设 | 订购广告 | 网站律师 | 付款方式 | 服务条款 | 隐私保护 | 联系我们
服务热线：010-89438819 京ICP备12042581-2
进出口服务网(www.ciedata.com)版权所有 2009
服务热线：010-89438819 京ICP备12042581-2
进出口服务网(www.ciedata.com)版权所有 2009