- 3824909990光刻胶去除剂
- IdealClean成分:胺类20%-80%,酚类3%-20%瓶装
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- M2400000-0001等
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- 半导体生产用的清洁剂;1-甲基-2-吡咯烷酮50-70%,环丁
- 3824909990光刻胶去除剂
- 半导体生产用的清洗剂;脂溶剂35-45%
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- 半导体芯片蚀刻后残留物的去除;杂环化合物0.1-1%,取代
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- 成分含量:乙醇胺50-60%,羟胺10-20%,邻苯二酚1-5%
- 3824909990光刻胶去除剂
- 用途清洗机用|水>33%胺盐<55%有机
- 3824909990光刻胶去除剂
- 用于半导体制造桶装
- 3824909990光刻胶去除剂EKC270
- 去除电子板上的微尘;羟胺10-30%邻苯二酚2-10%乙醇胺20
- 3824909990光刻胶去除剂PHOTORESISTREMOVER
- 蚀刻后的残留物消除剂;氨基乙氧基乙醇55
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