- 9013803090显示屏(BGDCUKPL)
- 半导体激光脱毛机用|液晶层夹于两片导电玻璃间,通电后,两片玻璃间会造成电场,影响液晶分子排列,使其分子棒进行扭转,光线便无法穿透,进而遮住光源,从而得到光暗对比现象|TN|5.7英寸|ASCLEPION牌|无型号
- 9013803090液晶显示面板
- 数控机床,绣花机等用|半导体偏光振透射发光|TFT型|8.4寸等|NEC/NLT牌|NL6448BC26-11等|数字电路,液晶板由液晶屏,背光板等组成与其他电路板连接才能使用|无视频功能无CPU控制电路板
- 2804619099多晶硅
- 半导体用|利用冶金硅与氯化氢合成产生便于提纯的三氯氢硅气体，然后将其精馏提纯，最后通过还原反应和化学气相沉积，将高纯度的三氯氢硅气体转化为本品|硅含量≥99.99%|块状|无电阻率|无需清洗|签约日期：2013.12.3
- 2804690000金属硅
- 用于生产有机硅,制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等|硅石在电炉内用炭做还原剂,通过高温生产出高纯度的单质硅|硅元素含量在99%以上,所含杂质为铁0.3%以下,铝0.3%以下,钙0.03%以下|无品牌|块状
- 2931900090六甲基二硅氮烷
- 成分：六甲基二硅氮烷≥99%，六甲基二硅氧烷≤0.7%，三甲基硅醇≤0.3%。|用途：用于半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。用于阿米卡星，盘尼西林，头孢霉素等合成过程中的甲硅烷基化，用于硅藻土，白炭黑钛等粉末的表面处理。|签约日期：2012.3.2
- 2804690000金属硅(553)
- 金属硅(Si)是工业提纯的单质硅,用于生产有机硅,制取高纯度的半导体材料|通过人工挑选-水清洗合格硅石-破碎至10-100MM-筛分-再水洗除去碎石、石粉-经称量后与石油焦按照一定比例混匀-将合格料送至冶炼炉进行冶炼除杂-生产出合格产品|Si>98.5%,Fe≤0.5%,Al≤0.5%,Ca≤0.3%|553
- 2931900090六甲基二硅氮烷
- 成分：六甲基二硅氮烷≥99%，六甲基二硅氧烷≤0.7%，三甲基硅醇≤0.3%。|用途：用于半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。用于阿米卡星，盘尼西林，头孢霉素等合成过程中的甲硅烷基化，用于硅藻土，白炭黑钛等粉末的表面处理。|签约日期：2011.12.15
- 3824909990磷膜状扩散源（磷纸）
- 用于半导体材料上|红磷50%蜡30%粘合剂20%|塑料盒装|无|型号P70A品牌EILMTRONICS|磷膜状扩散源用于制造二极管的工艺材料，置于两硅片中间，再放入加热炉加热三小时使其依附在硅片上，经化学反映后形成PN结，达到生产工艺的要求
- 3824909990模具清洗剂MELAMINE
- 用于半导体模具清洗,通过预热,注塑的方式填充到模具型腔内,硅粉可以在填充的过程中有刮擦的作用,清洁剂可以与模具表面的污物反应,最后将模具污物拉出;三聚氰胺60到75硅粉20到35;10KG/箱;总的稀土元素重量百分比含量,以"〔A〕"表示,具体为:"〔A〕:%":"〔A〕:%":无稀土元素
- 9011200000红外缩微照相显微镜INFRAREDMICROSCOPE
- 用于微区或微小的红外固体材料,半导体材料做化学物质无损定性检测,并对检测对象缩微照相|原理:红外缩微照相显微镜作为红外光谱仪附件,由光谱仪外光路引出红外光到显微系统上,照射到样品,含有样品信息的干涉光和缩微相片由外部电缆反馈回光谱仪|THERMO牌|无型号|15倍
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