- 3824909990水晶片浸蚀液
- ;氟化铵36%氟化氢4%水60%;5千克
- 3824909990二氧化硅蚀刻剂
- 硅片蚀刻;氢氟酸7%氟化铵34%其余为水
- 3824909990二氧化硅蚀刻液
- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%
- 3824909990二氧化硅蚀刻液BHF157
- 蚀刻用;氢氟酸6%氟化铵16%其余为水;
- 3824909990氧化物刻蚀缓冲剂
- 半导体制造用|成分含量:氟化铵19.0-
- 3824909990氧化物刻蚀缓冲剂
- BOE半导体制造|氢氟酸17.3%氟化铵
- 3824909990氧化物刻蚀缓冲剂
- 半导体制造用;氢氟酸0.05%,氟化铵1
- 3824909990高纯度氢氟酸
- 见备注;氟化铵36.36%,氟化氢4.55%,水59.09%;瓶装;5KG
- 3824909990金属表面防锈剂
- 金属表面防锈;氟化氢铵25-50%氟化铵
- 3824909990二氧化硅蚀刻液BHF242
- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%
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