- 8486909000反应腔/化学气相沉积设备用零件
- 02-307391-00
- 8486909000托盘(品牌ASM,铝制,置于反应腔内
- 型号:70055-00889B
- 8486909000反应腔体,硅片清洗机专用
- 853-103403-002LAM牌铝合金制提供反应空间
- 8486909000化学气相淀积设备观察反应腔窗口板
- ;;型号40-054954-00
- 8486909000化学气相淀积设备观察反应腔窗口板
- 化学气相淀积设备用;诺发牌;型号40-054954-00
- 84869090蚀刻设备用气体反应腔体
TEMPLATE- 84862021金属有机物化学气相淀积设备
- K465i
化学气相淀积
该商品由手套箱系统、反应腔、气体系统、电源及控制系统、真空系统、冷却水和气动系统、安全控制系统等组成。功能是在衬底表面生长一层或多层半导体薄膜。工作原理是通过控制通入反应腔气体的种类、流量和反应腔内的温度、压力，从而在衬底表面生长出不同工艺要求的半导体薄膜。进口后用于LED制造的外延片加工工序。 - 8486909000离子发生器
- 离子注入机用,产生氟离子,清洗反应腔;AMC;无型号
- 8481804090调节阀
- 控制反应腔压力;诺发牌;型号61-341353-00;两位两通
- 6909110000盘片
- 0021-11486,保护气相沉淀机反应腔/瓷制/莫氏硬度6
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