- 8543709990射频匹配器(调节电容,以匹配反应腔和发生器,独立功能)
- 0010-22498APPLIEDMATERIALS物理气相沉淀机用
- 8543709990射频匹配器(调节电容,以匹配反应腔和发生器,独立功能)
- 0010-02372APPLIEDMATERIALS物理气相沉淀机用
- 8543709990射频匹配器(调节电容匹配反应腔和发生器,有独立功能)
- 型号0010-02372APPLIEDMATERIALS物理气相沉淀机用
- 84862090单片型晶圆旋转清洗机
- 品牌LAM；型号SP323；
清洗机
1)设备构成：SP323单片型晶圆旋转清洗机，包括2个独立的反应处理腔，晶圆传送系统(包括全自动晶圆传送盒、机械手)，化学品输送系统(包括储存三种化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统组成。2)设备原理：机械手将晶圆传输至反应处理腔，清洗处理过程中可使用三种液体化学品，经过精确控制浓度和剂量后被传送至将反应处理腔，通过反应腔室的旋转，液体化学品与晶圆表面进行均匀充分的化学反应处理，以去除晶圆表面上道制程的残留物质和多余氧化层。并可用高纯度水冲洗和氮气进行干燥。控制系统高度灵活，可实现三种化学品 - 84862090单片型晶圆旋转清洗机
- 品牌LAM；型号SP323；
清洗机
1)设备构成：SP323单片型晶圆旋转清洗机，包括2个独立的反应处理腔，晶圆传送系统(包括全自动晶圆传送盒、机械手)，化学品输送系统(包括储存三种化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统组成。2)设备原理：机械手将晶圆传输至反应处理腔，清洗处理过程中可使用三种液体化学品，经过精确控制浓度和剂量后被传送至将反应处理腔，通过反应腔室的旋转，液体化学品与晶圆表面进行均匀充分的化学反应处理，以去除晶圆表面上道制程的残留物质和多余氧化层。并可用高纯度水冲洗和氮气进行干燥。控制系统高度灵活，可实现三种化学品/氮
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