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2826199090四氟化碳 CF4


N6.0/成分:99.9999%四氟化碳
2903399090四氟化碳CF4
>99%四氟化碳CF4其他杂质|电子行业制造用|无其他

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四氟化碳99.999%杂质0.001%无牌分子式:CF4

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四氟化碳99.999%杂质0.001%||无牌分子式:CF4

2903399090四氟化碳
四氟化碳99.999%杂质0.001%|用于玻璃蚀刻|分子式:CF4无牌

2903399090四氟化碳,CF4
CF4 99.99%,杂质0.01%|用

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四氟化碳99.999%水0.001%|磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻|分子式:CF4无牌

2903399090四氟化碳
四氟化碳99.999%水0.001%|用于钨薄膜材料的烛刻|分子式:CF4无牌

2903399090四氟化碳CF4
100%CF4;生产电子半导体芯片用

2903399090四氟化碳
四氟化碳99.999%杂质0.001%|属等离子蚀刻气体,广泛应用于硅,二氧化硅,磷硅玻璃及钨薄膜材料的蚀刻|分子式:CF4无牌

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