- 2903399090四氟化碳
- CF4≥99.99%，其他≤0.01%|
- 2903399090四氟化碳
- ;纯度99.99%;分子式：CF4
- 2903399090四氟化碳
- 99.997%CF4;保护图案;M1001402
- 2903399090四氟化碳CF4
- 半导体及LCD,生产用
- 2903399090四氟化碳，CF4
- CF499.99%|用于各种集成电路的等离子刻蚀工艺，也用作激光气体及制冷剂
- 2903399090四氟化碳
- CF4;用于ETCH区域的氧化层蚀刻;>
- 2903399090四氟化碳
- CF4,用于ETCH区域的氧化层蚀刻,>
- 2903399090四氟化碳
- 纯度:99.99%;制冷剂用;分子式:CF4
- 2903399090四氟化碳
- 纯度:99.999%;制冷剂用;分子式:CF4
- 2903399090四氟化碳
- CF4|用于低温制冷及集成电路的等离子蚀刻和清洗
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