- 3824909990二氧化硅蚀刻液BHF
- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%其余为水;桶装;
- 3824909910复合硅蚀刻液
- 用于蚀刻硅;含硝酸百分之38点7氢氟酸百
- 3824909990二氧化硅蚀刻剂
- 硅片蚀刻;HF(氢氟酸)7%，NH4F(氟化铵)34%;塑料桶;
- 3824909990二氧化硅蚀刻液
- 蚀刻二氧化硅;氟化铵百八之四十,氢氟酸百
- 3824909990二氧化硅蚀刻液
- 蚀刻用;氢氟酸<2%氟化铵<25%其余为水;瓶装
- 3824909990二氧化硅蚀刻液
- 蚀刻用;氢氟酸0.95%氟化铵24.2%,其余为水;瓶装
- 3824909990无机混酸,酸洗二极管
- 含柠檬酸30%,氯化物10%,氢氟酸20%,氢氟矽酸5%
- 3824909990无机混酸,酸洗二极管
- 盐酸31%,氢氟酸30%,冰乙酸39%,用于生产二极管辅料
- 3824909990无机混酸,酸洗二极管
- 用于生产二极管辅料|盐酸31%氢氟酸30%冰乙酸39%
- 3824909990混酸
- 成分含量:醋酸,硝酸,氢氟酸的比例:6:1:1,见备注
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