- 3824909990氢氟酸缓冲液
- 刻蚀工艺用;0.7%NH4HF2,39.
- 3824909990氢氟酸缓冲液(LAL30)
- 去除氧;NH4HF2,NH4F;桶装;无
- 3824909990氢氟酸缓冲液BUFFEREDOXIDEETCHANT
- 刻蚀用;备注;桶装;不含稀土元素
- 3824909990氢氟酸缓冲液BUFFEREDOXIDEETCHANT
- 刻蚀用;备注;桶装;无稀土元素,签约日期
- 3824909990氢氟酸混合液
- 63BHF-SE,半导体工业用
- 3824909990氢氟酸混合液
- 63BHF-SE,半导体工业用,硅片清洗,塑料桶
- 3824909990氢氟酸混合液
- 刻蚀多晶硅;无;桶装63BHF;无;无
- 3824909990高纯度氢氟酸
- ;氟化铵36.36%氟化氢4.55%水59.09%;瓶装;5KG
- 3824909990氢氟酸缓冲液BUFFEREDOXIDEETCHANT
- 刻蚀用;见备注;桶装
- 3824909990高纯度氢氟酸
- 见备注;氟化铵36.36%,氟化氢4.55%,水59.09%;桶装;5KG
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