- 3402900090表面活性清洁剂
- 用于清洗晶圆上的有机物、光刻胶等物质|塑
- 3402900090表面活性清洗剂
- 用于清洗晶圆上的有机物、光刻胶等物质|塑
- 2927000090光敏剂
- 成分见备注;在光刻胶中起光交联的作用;型
- 2931900090四甲基二乙烯基二硅氮烷
- 大于等于95%;作负性光刻胶的助粘促进剂
- 3824909990剥离液
- 用于沉积金属完毕后对残留在基片上的光刻胶
- 3824909990硅片平面化液
- 用于金属表面光刻胶的显影;备注;塑料瓶装;无;SOG211
- 3824909990光罩蚀刻机清洗剂(无机酸混合物)
- 用于清洗硅片上残留的光刻胶;备注;塑料瓶
- 38249099906：1BOE腐蚀液6：1BOEBUFFEREDOXIDEETCHANT
- 用于去除没有光刻胶覆盖的氧化物区域,腐蚀
- 3824909990清洗液POST-ETCHRESIDUEREMOVER
- 用于TSV直孔刻蚀后光刻胶的清洗，以消除
- 3824909990去光阻液IPS6000stripper
- 除光刻胶用;N甲基吡咯烷铜60乙醇胺16
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