- 2903399090四氟化碳
- 无品牌/无型号
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- 99.995%|主要用于集成电路板的蚀刻
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- 99.999%|半导体晶圆的刻蚀和设备腔体的清洗
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- CF4CF4≥99.999%，其它≤0.001%|反应气体，用于ETCH区域的氧化层蚀刻
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- 纯度：99.999%|用于集成电路板的蚀刻和清洗|分子式：C
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- 纯度99.999%|半导体刻蚀、清洗
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- 无|主要用于集成电路板的蚀刻和清洗
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- 无品牌;无型号
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- 035600001，含量99.99%，C
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- 99.995%|主要用于集成电路板的蚀刻和清洗
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