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3824909990光刻胶去除剂
ACT用于半导体制造|1,2-二丙二醇甲醚<60%,5%-6%二乙基羟胺,其余为水|桶装|无稀土元素

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EKC270,半导体工业用

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EKC270T,成分:胺类20%-80%,酚类3%-20%

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M2401400/SST-A2200KG/200L/DRTOK

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半导体生产用的清洁剂;取代酰胺50-80%,水大于20%,氟氢

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备注;羟胺10%-30%邻苯二酚2%-10%乙醇胺20%-30%水等

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集成电路用;羟胺10-30%乙醇胺20-30%水等;塑料桶;无

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集成电路用|羟胺10-30%乙醇胺20-

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去除残留光刻胶;乙醇胺20%,水80%;桶装;无/M2400201

3824909990光刻胶去除剂
去除残留光刻胶;乙醇胺20%水80%;桶装;M2400201

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