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3824909990抛光液
清洗磁盘用|二氧化硅34%乳酸5%去离子

3824909990抛光液
清洗磁盘用|硫酸4%乳酸5%去离子水91

3824909990抛光液
生产金属盘片用无牌P-APS|二氧化硅3

3824909990抛光液
使各元器件及切割表面更光滑;60-70%

3824909990抛光液
研磨板抛光用;二氧化硅20-30%有机胺小于20%水60-70%;塑料桶装;无稀土元素

3824909990抛光液
用于半导体硅晶片上二氧化硅膜的抛光;水80-90%无机盐1

3824909990抛光液
用于硅片表面抛光,型号ILD3225;二氧化硅20-30%,氢氧化

3824909990抛光液
在玻璃盘片加工工艺中起研磨作用|CeO2

3824909990抛光液(ILD3225)
用于精细研磨硅片;二氧化硅<30%,氢氧化钾<4%,其余为水

3824909990抛光液(NP6220)
用于初步研磨硅片;二氧化硅<7%,二次乙亚胺<7%,甲醇<1%

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