- 2931900090六甲基二硅烷HEXAMETHYLDISILANE
- 99.9%,0.1%杂质;用作合成三甲基
- 2931000090六甲基二硅烷
- 含量>99%，用于光刻制程，增加光刻胶和
- 2931000090六甲基二硅烷
- 含量>99%/光刻用
- 2931900090六甲基二硅烷
- 99%，杂质1%;用于医药合成
- 3824909990甲基硅氧烷混合物METHYLSILOXANEMIXTUREMSM001-MS
- 用于生产再生硅油;正己烷30%六甲基二硅烷20%八甲基环
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