- 2903399090六氟乙烷
- 含量99.5%|用作等离子蚀刻剂|无品牌
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- 含量99.99%|用作等离子蚀刻剂|无品
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- 无品牌,无型号
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- 99.999%C2F6;芯片制造用
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- C2F6半导体制造 含量:100%
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- CVD区域清洁气体,用于清洗机台M100
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