- 3824909990研磨液
- 半导体集成电路研磨;二氧化铈1-10%,去离子水90-100%;
- 3808931900480克/升灭草松液剂BASAGRANGUS
- 用途除草;灭草松40%去离子水60%;包装非零售包装
- 3814000000半导体等级清洁溶液
- 氢氧化四甲铵<15%，等离子水>85%，其他<5%，蚀刻用
- 3824909990黑泥面膜(原料)
- 膏状;主成份:去离子水5%,深海黑泥80%等;60-129KG/桶
- 3822009000测试溶液
- 实验室用/型号011008等;瓶装;氯化钠,去离子水等;否
- 3822009000测试溶液
- 实验室用/型号AC4006等;瓶装;氯化胺,去离子水等;否
- 3822009000化学试剂,瓶装,无病毒,无血液成份
- 主要成份:氯化铵缓冲液,去离子水荧光剂等成份
- 3824909990缓冲液
- ALMIST-B,奥野牌成分氨盐71%醋酸钠盐18%去离子水11%
- 3824909990缓冲液
- ALSATINBUN1498等奥野牌氨盐71%醋酸钠盐18%去离子水
- 3824909990按摩膏(原料)
- |主成份:去离子水47.3%,植物油44.12%,其它8.58%|47.10-122.7KG/桶||膏状
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