- 8424899990玻璃清洗机(后清洗)
- 无品牌|无型号|
清洗机
玻璃清洗机(后清洗)：边传动边喷淋碱液水,以达到清洗玻璃表面 - 84862090单片型晶圆旋转清洗机
- 品牌LAM；型号SP323；
清洗机
1)设备构成：SP323单片型晶圆旋转清洗机，包括2个独立的反应处理腔，晶圆传送系统(包括全自动晶圆传送盒、机械手)，化学品输送系统(包括储存三种化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统组成。2)设备原理：机械手将晶圆传输至反应处理腔，清洗处理过程中可使用三种液体化学品，经过精确控制浓度和剂量后被传送至将反应处理腔，通过反应腔室的旋转，液体化学品与晶圆表面进行均匀充分的化学反应处理，以去除晶圆表面上道制程的残留物质和多余氧化层。并可用高纯度水冲洗和氮气进行干燥。控制系统高度灵活，可实现三种化学品 - 84862090单片型晶圆旋转清洗机
- 品牌LAM；型号SP323；
清洗机
1)设备构成：SP323单片型晶圆旋转清洗机，包括2个独立的反应处理腔，晶圆传送系统(包括全自动晶圆传送盒、机械手)，化学品输送系统(包括储存三种化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统组成。2)设备原理：机械手将晶圆传输至反应处理腔，清洗处理过程中可使用三种液体化学品，经过精确控制浓度和剂量后被传送至将反应处理腔，通过反应腔室的旋转，液体化学品与晶圆表面进行均匀充分的化学反应处理，以去除晶圆表面上道制程的残留物质和多余氧化层。并可用高纯度水冲洗和氮气进行干燥。控制系统高度灵活，可实现三种化学品/氮 - 84222000清洗系统
- |SUGINO|JPCM-57190
清洗系统
用于冲击喷射反应器内壁,用高压.高速的水流冲击反应器表面,使其达到光滑和洁净的目的。 - 28111100氢氟酸 刻蚀硅片表面形成氧化膜
氢氟酸10%,水90%- 28111100氢氟酸 刻蚀硅片表面形成氧化膜
氢氟酸49%水51%- 28111100氢氟酸 清洗
HF49%- 3824909990氢氟酸混合液
- 用途半导体工业用,硅片清洗用;成分含量氢氟酸5.75-6
- 3402900090氢氟酸
- 清洗蚀刻玻璃后的表面残留的蚀刻液和金属层
- 3402900090镜片清洗剂.
- 清洗眼镜片颜色|非零售|氢氟酸4-6%,
专业提供各国海关进出口数据、各国贸易数据、产品进出口分析报告、 行业进出口报告、企业进出口报告、进口企业黄页、出口企业黄页等信息产品
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有需求者请致电：010-89438819
QQ：529457141
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