- 3824909990二氧化矽蚀刻液(氢氟酸溶液)SIOETCH
- 用于蚀刻二氧化硅;氢氟酸<=10%氟化铵3-27%其余为水;瓶
- 3824909990二氧化矽蚀刻液(氢氟酸溶液)SIOETCH
- 半导体行业中用于蚀刻二氧化硅;氢氟酸<=10%氟化铵3-27
- 2811110000氢氟酸70%MIN94MTSHYDROFLUORICACID70PERCENTMIN
- HF70%MINH2SIF6(氟硅酸含量
- 2811110000无水氢氟酸
- 氟化氢>99.5%|钢质气瓶,安瓿瓶外普
- 2811110000氢氟酸70%MIN18.8MTSHYDROFLUORICACID
- HF70%MINH2SIF6(氟硅酸含量
- 28111100氢氟酸 清洗
HF49%- 2811110000氟化氢
- 氢氟酸含量70%
- 2811110000氟化氢
- 氢氟酸含量40%
- 3824909990光泽添加剂
- 氢氟酸55%水45%
- 2811110000氟化氢(氢氟酸)
- HF:55%用于去除金属表面污垢;塑料桶
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