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28112200二氧化硅: 含硅量99%
28112200干燥剂二氧化硅: 含量99%
28121049三氯化硼BCL3 半导体制造用气体: 含量:99.99%
2812900090四氟化硅刻蚀制程用: SIF4,含量：99.99%
28182000氧化铝: A-36B/含量99.6%
28182000氧化铝: 含量99%
28182000氧化铝: 含量99.6%/A-36B
28211000三氧化二铁: G-500,含量:99.08%
28211000三氧化二铁: G-500,含量:99.13%
28211000三氧化二铁: G-500,含量:99.4%

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共274590条，共27459页

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