化学气相沉积装置商品归类和HS商品编码--商品归类查询--进出口服务网

查询样本： 29400000 成品糖载人电梯乳制品玉米大豆硫磺矿萤石矿双氧水氢氟酸氟化铝聚脂切片活性碳云母粉稀土废金属石油焦涂镀

首页 >> 商品归类 >> 搜索：化学气相沉积装置

8486202100化学气相沉积装置THERMCO 5200: 此设备主要用于，半导体制造中，CVD工艺
8486202100化学气相沉积装置: 半导体制造工艺用|将气相前躯体气体通入反
8486202100化学气相沉积装置(CVD)(旧): 半导体制造工艺用|辉光放电激活沉积室内气
8537101190可编程控制器: 化学气相沉积装置用;SIGA;化学气相沉积装置用;KS98-1;
84862021等离子化学气相沉积装置: |CENTROTHERM|E2000-HT410-4
化学气相沉积
太阳能电池生产线用|在半导体表层沉积氮化硅膜
8486202100化学气相沉积装置MRL PHOENIX LPCVD: 此设备主要用于，半导体制造中，CVD工艺
8486909000化学气相沉积装置用导电板块: 用于连接传导接头和加热板,起导电作用;JUSUNG;无型号
8486909000化学气相沉积装置用导轨: 气相沉积装置用,传输信号,使机械臂运作;品牌JUSUNG
8486909000化学气相沉积装置用气压盒: 用于腔体内部,保护在真空状态下零件不被损坏;JUSUNG
8486909000化学气相沉积装置用保护罩: 注;品牌JUSUNG;定制,无型号

共78条，共8页

专业提供各国海关进出口数据、各国贸易数据、产品进出口分析报告、行业进出口报告、企业进出口报告、进口企业黄页、出口企业黄页等信息产品