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84862021PECVD化学气相沉积设备: 品牌:铂阳|无型号|
CVD
PECVD化学气相沉积设备：离解化学气体,在玻璃基板上产生化学反应,生长薄膜/250MW硅基薄膜太阳能自动化生产线
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8486909000化学气相沉积设备用电路板: 化学气相沉积设备用;Novellus;03-274553-00;控制
8486909000化学气相沉积设备专用校准块: 化学气相沉积设备用;;型号71-358079-00;非成套
8486909000化学气相沉积设备专用硅片加热盘: 化学气相沉积设备专用;诺发牌;型号02-364187-00
8514909000化学气相沉积设备反应室附属设备（新）: 化学气相沉积设备反应室工作用;;417585-GT-CVDM2/3/4
8486909000化学气相沉积设备用托盘: 化学气相沉积设备用;AMAT;0040-43904
8486909000化学气相沉积设备用研磨头: 化学气相沉积设备用;AMAT;0010-32017;修整研磨垫

共521条，共53页

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