- 3814000000去光阻液/蚀刻用/其他<1%
- 有机溶剂30%-80%，氢氧化烷基铵<5%，水15%-65%
- 8486209000LAURELL牌匀胶机(旧)
- 将光阻液涂于晶片上;WS-400A-6NPP/LITE;离心力原理
- 8481804090其他阀门
- 喷射光阻液;DNS;DCV231(5/3);三位五通
- 3824909990正光阻液/化合物7%染料3%树脂15%
- FUJIFILM牌FH6400LD,乳酸乙酯60%3-乙氧基丙酸乙酯15%
- 3402900090去光阻液/蚀刻制程清洗光阻用/桶装/非零售
- 有机表面活性剂/氢氧化烷基铵2.5-10
- 3707100090光刻胶
- 用于芯片制造曝光工艺(DUV正光阻液,曝光的部分显影用)
- 8486109000有机(去光阻)清洗机
- ORG-001B;去光阻液用超音波震荡方式去除芯片表面光阻
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