- 2931900090二甲基乙烯基氯硅烷
- 99%|光刻胶的原料|签约日:12071
- 2906210000苄醇（苯甲醇）
- 百分百;用于光刻胶生产中作添加剂
- 2931900090四甲基二乙烯基二硅氮烷(工业用)
- 含量≥99%|作负性光刻胶的助粘促进剂等
- 2933290090六芳基二咪唑BCIM
- ≥99%;本品是光刻胶引发剂;粉末
- 2914399090二苯甲酮BENZOPHENONE
- 成分含量：C13H10O;用途：光刻胶引
- 2915390090正胶稀释剂
- 丙二醇甲醚乙酸酯100%,光刻胶的稀释,
- 2930909099二甲亚砜
- 二甲亚砜99%,水1%|用于生产光刻胶去
- 2931000090二甲基乙烯基氯硅烷
- 成分含量:>99%;用途:光刻胶的原料
- 2933699090六甲氧甲基三聚氰胺
- CYMEL303,液态状,是光刻胶的组成
- 2931000090四甲基二乙烯基二硅氮烷
- ≥95%;作负性光刻胶的助粘促进剂等
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