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8486204100刻蚀机(旧)
集成电路制造|刻蚀表面图形用|ALCAT

8486204100等离子刻蚀机(旧)
与光刻等半导体工序结合,将覆盖在硅片材料

8486204100干法刻蚀机(旧)
用于半导体晶圆的制造|对晶圆正面的不同深

8486204100等离子刻蚀机(旧)
蚀刻半导体晶片表面未保护区域的Si、Si

84862041刻蚀机(旧)1994年


制作半导体专用
8486204100二氧化硅刻蚀机(旧)1999年制
用于半导体集成电路刻蚀工艺|离子刻蚀工艺

8486204100二氧化硅刻蚀机(旧)2001年制
用于半导体集成电路刻蚀工艺|离子刻蚀工艺

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