- 8486202200磁控溅射台
- 用途;功能;品牌;型号
- 8103909090钽靶(钽>99.9%)(应用在300毫米磁控溅射台的钽腔中
- 型号:41980-73-024-450等
- 8108909000钛靶(钛>99.9%)(应用在300毫米磁控溅射台的钛腔中
- 型号:4567F-22-000-500等
- 7419999100铜靶(铜>99.9%)(应用在300毫米磁控溅射台的铜腔中
- 型号:56800-29-000-600
- 8486909000溅射靶
- 用于制造半导体磁控溅射台上镀膜用或电器,仪表等平面
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