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3824909990蒸发靶材/用途:给镜片镀膜,包装:10个/包,片状: 无型号,成分:50%氧化铝,35%高岭石,15%三氯乙酸
3824909990用于光盘生产的涂层靶材(硫化锌,二氧化硅): 制造光盘的涂层，防止光盘氧化|硫化锌80
3824909990蒸发靶材/成分:90%青铜,10%聚合物,用途:给镜片镀膜: 包装:10个/瓶,片状,牌:SATISL
3824909990蒸发靶材/用途:给镜片镀膜,包装:10个/瓶,片状: 无型号,成分:90%青铜,10%聚合物
7419999100工业用铜靶材(用于芯片生产中的物理气相沉积): 圆形铜含量为99.9999%厚度为25.4mm
8486202900薄膜沉积系统(科研用/利用电子束轰击靶材,: 沉积在基片上镀膜)/装载能力1片/DE-12
8501510090旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的物: 规格型号:102261186W
9013901000激光相互作用靶材(激光器与铜靶相互作用: 产生X射线,ф2*250MM
84863022镀膜机/制造平板显示器专用: AppliedMaterials牌/NAR1400L(4Mo+5Al)型
镀膜机
原理:本设备将工作腔抽成真空后灌入氩气,高温高压条件下氩气形成离子层,氩离子在电场作用下,高速冲击靶材(氧化铟锡),使靶材分离出的金属离子在电场作用下附在玻璃基板表面形成薄膜,玻璃基板即可导电
3824909990氧化铟锡板: 用作真空溅射设备上靶材;90%三氧化二铟10%二氧化锡;30

共1260条，共126页

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