- 7616999000靶材ALND
- 工业用;钕铝金属;板;溅射成为栅电极层
- 8102950000靶材(残靶)
- (MO-NB)1130X1200X10T(mm)
- 8102950000钼铌靶材
- 板状,90%钼10%铌,锻造
- 8102990000钼铌靶材
- 90%钼10%铌;金属;10*200*1100mm,1片/套
- 8103909090钽靶材
- 型材;钽;金属;锻轧;;99.9%钽0.1%杂质;;DIA200X6MM
- 7419999100靶材(铜制)
- Anwell牌AN15_163_6_J20个铜≥99.99%,其它≤0.01%
- 7419999100铜靶材
- 工业用;铜制;颗粒;铸造;无进一步加工
- 8007002000铟锡靶材
- 片;110x100x8mm;锡97%铟3%;无衬背;无氧化
- 8101991000钨靶材
- 形状:圆盘形材质:钨加工方法:溅射工艺半导体生产用
- 81029400钼靶材
- 主要成份:钼
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