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3824909990蒸发靶材/用途:给镜片镀膜,包装:10个/包,片状
无型号,成分:50%氧化铝,15%三氯乙

3824909990蒸发靶材/成分:90%青铜,10%聚合物,给镜片镀膜用
包装:10个/瓶,片状,牌:SATISL

3824909990蒸发靶材/成分:90%青铜,10%聚合物,给镜片镀膜用
牌:SATISLOH,无型号,包装:10个/瓶,片状

3824909990蒸发靶材/用途:给镜片镀膜,包装:10个/包,片状
无型号,成分:50%氧化铝,35%高岭石,15%三氯乙酸

3824909990用于光盘生产的涂层靶材(硫化锌,二氧化硅)
制造光盘的涂层,防止光盘氧化|硫化锌80

3824909990蒸发靶材/成分:90%青铜,10%聚合物,用途:给镜片镀膜
包装:10个/瓶,片状,牌:SATISL

3824909990蒸发靶材/用途:给镜片镀膜,包装:10个/瓶,片状
无型号,成分:90%青铜,10%聚合物

7419999100工业用铜靶材(用于芯片生产中的物理气相沉积)
圆形铜含量为99.9999%厚度为25.4mm

8486202900薄膜沉积系统(科研用/利用电子束轰击靶材,
沉积在基片上镀膜)/装载能力1片/DE-12

8501510090旋转靶材电动机组件(用于制造液晶显示屏的物
规格型号:102261186W

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