- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- M2001000/NMP(200KG/1
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- 成分:N-甲基-乙-吡咯烷酮99%;见备
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- 成份100%,M2001000-0001
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- 含量百分之100C5H9NO清洗光阻层桶
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮N-METHYL-2-PYRROLIDONEC5H9NO
- 百分之九十九点九NMP,百分之零点零一水
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮N-METHYL-2-PYRROLIDONEC5H9NO
- 百分之九十九点五NMP,百分之零点零五水
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮NMP
- 100%;用于半导体制造工艺中;
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- M2001000-0001等
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- 硅片生产过程中清洗光阻层
- 2933790090N-甲基-2-吡咯烷酮
- 酸槽清洗液,成交4桶
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