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8108909000钛靶(工业镀膜用)
无牌无型号Φ200X100MM

8101999000钨钛靶(已切割抛光,镀膜材料用)
板状;钨90%钛10%;8.4KG/个;非圆柱形;771*9

8101999000钨钛靶材(未切割抛光镀膜材料用)
板;钨90%等;658.66KG/个;非圆柱;838.2*304.8*177.8MM

8108909000钛靶(溅射硅片表面形成金属膜)
圆盘形钛99%E13T1TAG未锻轧

8108909000钛靶(钛>99.9%)(应用在300毫米磁控溅射台的钛腔中
型号:4567F-22-000-500等

8108909000钛靶(钛>99.9%)(用于在芯片表面沉积金属导电膜,材质:
型号:4N5TiCoilINVectraPlusIN

8108909000钛靶(钛>99.9%)(应用在300毫米磁控制射台的钛腔中,是
型号:4567F-22-000-500

8108909000钛靶(Ti>99%)(在半导体芯片生产过程中,金属靶材用于
型号:5NTiMONO,300mm

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