- 8486302100半导体膜成膜装置(3层)
- 型号:25KPECVD,品牌:AKT,旧设备
- 8486302100等离子化学气相沉积设备
- 化学镀膜;产生等离子体淀积形成薄膜;ULVAL牌;CX-500z
- 8486302100半导体膜成膜装置(pas)
- 型号:25KPECVD,品牌:AKT,旧设备
- 8486302100半导体膜成膜装置（Pas)
- 型号：25KPECVD品牌：AKT04年旧设备
- 8486302100等离子化学气相沉积设备
- 化学镀膜;产生等离子体,沉积形成薄膜;ULVAC牌;CX-500Z
- 8486302100半导体膜成膜装置（3层）
- 型号：25KPECVD品牌：AKT04年旧设备
- 8486302100等离子体增强化学气相沉积设备用真空反应室
- 液晶屏制造用;用于沉积薄膜;AKT牌;特制
- 8486302100等离子化学气相沉积设备
- 化学镀膜;产生等离子体淀积形成薄膜;ULVAC牌;CX－500z
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