84862049晶圆湿法刻蚀机

品牌LAM；型号DV34；
刻蚀机
1）设备构成：主要由4个独立的反应处理腔室，晶圆传送系统，化学品输送系统(包括两个储存二种不同化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统。2）设备功能：将晶圆放入反应处理腔室中，通过将氢氟与TMAH显影液混合溶液喷到晶圆正/背面，去除上道制程残留物质及晶圆表面多余薄膜层。1个反应处理腔室一次只能处理一片晶圆。3）设备原理：晶圆通过机器手臂传送至每个独立反应处理腔室，化学品输送系统将化学混合液体均匀地喷洒在晶圆表面进行反应腐蚀，以去除上道制程残留物质及晶圆表面多余薄膜层。在蚀刻完成后使用高纯度水冲洗，最后

84862049晶圆湿法刻蚀机

品牌LAM；型号DV34；
刻蚀机
1）设备构成：主要由4个独立的反应处理腔室，晶圆传送系统，化学品输送系统(包括两个储存二种不同化学品的液槽及循环的泵和管路)和控制系统。2）设备功能：将晶圆放入反应处理腔室中，通过将氢氟与TMAH显影液混合溶液喷到晶圆正/背面，去除上道制程残留物质及晶圆表面多余薄膜层。1个反应处理腔室一次只能处理一片晶圆。3）设备原理：晶圆通过机器手臂传送至每个独立反应处理腔室，化学品输送系统将化学混合液体均匀地喷洒在晶圆表面进行反应腐蚀，以去除上道制程残留物质及晶圆表面多余薄膜层。在蚀刻完成后使用高纯度水冲洗，最后使用

84862049光刻胶剥离机

制作半导体专用

84862049铜面微蚀处理设备

制作半导体专用

84862049外层蚀刻处理设备

制作半导体专用

8486204900激光刻边机

划分单位膜;形成电池片;EOTECH;A2Z166002

8486204900湿刻蚀绝缘机

避免短路;对硅片表面清洗除尘;KUTTLER;WEI0135S

8486204900湿刻蚀绝缘机

去除磷硅玻璃，避免硅电池成废品,KUTTLER,WEI0140S

8486204900酸性化学站

youyang牌BOE

8486204900氧化刻蚀机

NEOXL01/Exelan,品牌:LAM<旧>

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