- 8486203100波长365纳米紫外光源步进式光刻机
- 品牌CANON型号FPA-5550iZ
- 8486203100步进光刻机(旧)
- 半导体硅片加工;硅片表面制三维图;NIKON;NSR2005I10C
- 8486203100步进光刻机(旧)
- 半导体硅片加工用;硅片表面制三维图;NIKON;NSR2005I9C
- 84862031光刻机
- FPA-29
光刻机
功能：经历晶圆表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘等工序以达到:1.确保光罩校准于曝光透镜及晶圆处理平台，并使所有晶圆均校准于光罩;2.使得晶圆上的新曝光层能精确地校准于前一曝光层，再行曝光;3.机械系统执行粗略的预先校准，以促使屏幕预校之影像标记能落在合理且可见的范围内，以完成较精细的屏幕预校.4.自动校准为最精确的校准，校准后可使补偿值达到精准正确.用途：在硅片表面匀胶，然后将光罩/掩模版上的图形通过光线投射转移到光刻胶上,通过光刻胶的显影/曝光将器件或电路结 - 84862031光刻机
- FPA-29
光刻机
功能：经历晶圆表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘等工序以达到:1.确保光罩校准于曝光透镜及晶圆处理平台，并使所有晶圆均校准于光罩;2.使得晶圆上的新曝光层能精确地校准于前一曝光层，再行曝光;3.机械系统执行粗略的预先校准，以促使屏幕预校之影像标记能落在合理且可见的范围内，以完成较精细的屏幕预校.4.自动校准为最精确的校准，校准后可使补偿值达到精准正确.用途：在硅片表面匀胶，然后将光罩/掩模版上的图形通过光线投射转移到光刻胶上,通过光刻胶的显影/曝光将器件或电路结构一层一层“复 - 84862031旧曝光机(步进光刻机)
- |HITACHI牌|LD-5011iA型
步进光刻机
用于光刻LED电极，将图像信息转移到涂有感光物质的LED上 - 84862031光刻机
制作半导体专用
专业提供各国海关进出口数据、各国贸易数据、产品进出口分析报告、 行业进出口报告、企业进出口报告、进口企业黄页、出口企业黄页等信息产品
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